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リフトオフプロセスを用いた高抵抗シリコンウェーハ上への77GHzロットマンレンズの作製

International Journal of Antennas and Propagation誌に掲載されたこの論文では、リフトオフプロセスを用いた高抵抗シリコンベースのマイクロストリップロットマンレンズの製作が紹介されている。このレンズの特徴は、3つのビームポート、5つのアレイポート、16のダミーポート、±10度のビームステアリング角度である。レンズは厚さ200μmの高抵抗シリコンウエハー上に作製され、フットプリント面積は19.7mm×15.6mmである。このレンズは77GHzレーダーの一部としてテストされ、RFソースとして8倍逓倍のチューナブルXバンド・ソースが使用され、77GHzを中心とするミリ波信号がレンズとアンテナの組み合わせを通して放射された。放射された信号を受信するために、ダウンコンバータのハーモニックミキサーを備えたホーンアンテナを使用し、受信信号をアドバンテストのスペクトラムアナライザR3271Aで表示した。スペクトラム・アナライザでは、送信信号と受信信号が重ね合わされ、ロットマンレンズの設計を裏付ける適切なレーダー動作が示された。


 

引用

高抵抗シリコンウエハー上におけるー77GHz帯ロットマンレンズのーLift-Offプロセスによるー」International Journal of Antennas and Propagation, vol. 2014, Article ID 471935, 9 pages, 2014.